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| SI500PPD PECVD等离子沉积设备 |
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最近更新日期：2007-04-03 | |||||||
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| SI 500 PPD平行板式PECVD沉积系统
系统配置: • 电源13.56 MHz, 600 W • 驱动电极集成了淋浴头和暗区屏蔽 • 6 MFC控制气路(SiH4, NH3, N2O, O2, Ar, CF4) • 预真空锁loadlock， 带有取放机械手 • 高速率真空泵系统，独立气流压强控制 • 绝缘外接地电极，支持2"-4"基底或4"托架(支持小晶圆,小片样品) • 基底温度20ºC至350ºC • 远程控制(RFC) • Windos NT操作系统 • SENTECH高级等离子设备操作软件 选项: • Cassette到cassette操作方式 • 穿墙式安装 • 在线椭偏测量(SE 401, SE 801) |
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